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            Spin Coater (LT-SS Series)

         시스템 특장점

            Stand Alone Type
            Manual Loading & Auto Process
            Wafer, Glass, Ceramic 공정에 적합
            Chemical Dispense용 Scan Arm
            EBR, BSR Function
            5000rpm의 회전 (Option : 7,000rpm)
            PC, PLC Control & 6" Touch Panel
            고점도 Chemical Coating 가능
            저소음,저진동의 메카니즘 구현
            다양한 형태의 Spin Chuck 제작

적용 분야

            학교, 연구소, 기업체 연구용
            반도체, LED, MEMS, Probe Card 제품 생산용
            Wafer, Glass, Mask, Ceramic등의 Coating공정

시스템 Specification

   Spin Coater
      - LT-MS Series
      - LT-MS CB
      - LT-MS DC
      - LT-SS SC
      - LT-SS AD
      - LT-SS CB
      - LT-SS CSC

Spin Develop System

Spin Cleaning System

   Track System
      - LT-AS Series
      - LT-AS MLC Track
      - LT-AS (Spin Wet System)

ITEM	LT-SS 150	LT-SS 200	LT-SS 300
Substrate Size	Max 6" Wafer 100mm Square glass	Max 8" Wafer 150mm Square glass	Max 12" Wafer 200mm Square glass
Spin Motor	AC Servo Motor
Spin Speed	Max 5,000	Max 5,000	Max 3,000
Chuck	Aluminum / Acetal / Peek
Dispense Arm	In/Out : Stepping Motor, Up/Down : Cylinder or Motor
Cup (Bowl)	SUS or PP
Chemical Supply	PR Bottle 내장 SUS Tank에 의한 N2가압
Controller / Display	PC or PLC / 15" Monitor or 7" Color touch panel
Option	FFU / 정량토출용 Diaphragm Pump